從研微半導(dǎo)體自主研發(fā)的等離子體增強(qiáng)原子層沉積（PEALD）設(shè)備實(shí)現(xiàn)第三次交付，突破高端制程瓶頸，到國產(chǎn)首臺28納米關(guān)鍵尺寸電子束量測量產(chǎn)設(shè)備成功出機(jī)，實(shí)現(xiàn)電子光學(xué)系統(tǒng)與運(yùn)動平臺等核心技術(shù)的完全自研，推動高端半導(dǎo)體設(shè)備自主替代進(jìn)程，無錫集成電路產(chǎn)業(yè)一次次迎來高光時(shí)刻。

作為中國集成電路領(lǐng)域的“黃埔軍校”，無錫正以創(chuàng)新驅(qū)動和集群優(yōu)勢，穩(wěn)步推進(jìn)產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展。9月4日，2025集成電路（無錫）創(chuàng)新發(fā)展大會舉辦，這條波瀾壯闊的強(qiáng)“芯”之路正展現(xiàn)出更加廣闊的未來前景。

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